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首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)--納米壓印配套設(shè)備-GL Plasma等離子體清洗設(shè)備

GL Plasma等離子體清洗設(shè)備

產(chǎn)品型號:

簡要描述:? GL Plasma等離子體清洗設(shè)備數(shù)適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)。

  • 廠家實力

    Manufacturer Strength
  • 有效保修

    Valid Warranty
  • 質(zhì)量保障

    Quality Assurance

詳細(xì)介紹

GL Plasma等離子體清洗設(shè)備主要應(yīng)用于活化,提升附著力和清洗等工藝。


GL Plasma等離子體清洗設(shè)備相關(guān)參數(shù)

●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)

●適用于清洗納米壓印基底表面

●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性

●適用于增加工作模具基材與模具復(fù)制材料粘附性



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